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用于二維光柵的元件內(nèi)部場分析器
時(shí)間:2023-12-10 14:13來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
隨著VirtualLab Fusion版本2023.2的最新發(fā)布,添加了許多新的有用工具。但新奇之處還不止于此:我們還借此機(jī)會(huì)升級了一些以前存在的功能。我們將焦點(diǎn)放在了元件內(nèi)部場分析儀:FMM上,這是一種允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部場分布的工具。分析器現(xiàn)在還可以分析2D周期性結(jié)構(gòu)。
 
元件內(nèi)部場分析儀:FMM
 
 
這個(gè)例子演示了如何計(jì)算1D或2D周期性微米或納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。
 
抗反射蛾眼結(jié)構(gòu)的嚴(yán)格分析與設(shè)計(jì)
 
 
利用傅立葉模態(tài)方法和VirtualLab Fusion中的參數(shù)優(yōu)化,我們展示了蛾眼啟發(fā)的抗反射結(jié)構(gòu)的分析和設(shè)計(jì)。
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