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基于干涉的光學(xué)測試系統(tǒng)

​為了對結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行高精度檢查（通常用于半導(dǎo)體行業(yè)），可以使用基于干涉效應(yīng)的光學(xué)測試系統(tǒng)。對這些設(shè)置的完整模擬需要包括所有物理光學(xué)效應(yīng)，如結(jié)構(gòu)處的衍射、相干性以及在圖像平面上產(chǎn)生的干涉。為了幫助光學(xué)工程師完成這項(xiàng)任務(wù)，快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion提供了一系列工具，包括系統(tǒng)中的衍射和非序列建模。

 

隨著新版本2023.1的發(fā)布，我們還提供了一種新的探測器概念，允許用戶直接根據(jù)場信息計(jì)算可能感興趣的任何物理量。為了了解所有這些工具的是如何工作的，我們展示了以下兩個(gè)示例。在第一個(gè)例子中，使用高NA物鏡檢查非對稱微結(jié)構(gòu)晶片，而在第二個(gè)例子中我們使用不同形狀的測試表面顯示了來自經(jīng)典斐索干涉儀的輻照度圖案。

 

用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測的光學(xué)系統(tǒng)

 

 

該用例顯示了高NA晶片檢測系統(tǒng)的快速物理光學(xué)模擬，該系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體工業(yè)中檢測晶片上的缺陷。
 

光學(xué)檢測用的斐索干涉儀
 

借助非連續(xù)場追跡技術(shù)建立了斐索干涉儀，并顯示了來自幾個(gè)不同測試表面的干涉條紋。