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Essential Macleod應(yīng)用:雙面

Essential Macleod中的吸收工

Essential Macleod應(yīng)用反演工

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Macleod:吸收工具

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Macleod中優(yōu)化與合成

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應(yīng)用反演工程對(duì)四層減反膜進(jìn)

Macleod中雙面鍍膜的模擬

Essential Macleod應(yīng)用反演工程對(duì)四層減反膜進(jìn)行分析
時(shí)間:2021-01-28 21:54來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
有很多的過(guò)程可以被稱之為反演工程,但在Essential Macleod中,該術(shù)語(yǔ)的意思是用來(lái)識(shí)別理想設(shè)計(jì)的和實(shí)際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問(wèn)題”。這一過(guò)程類似于優(yōu)化,在優(yōu)化過(guò)程中,將初始設(shè)計(jì)進(jìn)行優(yōu)化,以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測(cè)量出來(lái)的、有問(wèn)題的膜層性能,但有的時(shí)候會(huì)有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中,經(jīng)常會(huì)有多個(gè)解決方案,但是,由于我們通常會(huì)從中選擇一個(gè)合適的設(shè)計(jì),所以多個(gè)解決方案很少會(huì)帶來(lái)麻煩。在反演工程中,只有一個(gè)正確答案,多個(gè)解決方案可能是災(zāi)難性的,那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案?這一點(diǎn)沒(méi)有完全嚴(yán)格的測(cè)試方法,因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識(shí)來(lái)評(píng)估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)以及各種不同的約束來(lái)指導(dǎo)過(guò)程。同時(shí),作為目標(biāo)的測(cè)量結(jié)果應(yīng)盡可能精確,這一點(diǎn)至關(guān)重要。因此,盡管反演工程本質(zhì)上是一個(gè)優(yōu)化器,但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。
 
我們可以看一個(gè)在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5,我們?cè)诿總(gè)Ta2O5層中引入誤差,在第四層中,靠近基板厚度+10%,在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計(jì)和錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的反射率如圖1所示,其中考慮了基板背面的影響。
 
 
圖1.橙色曲線表示無(wú)誤差四層設(shè)計(jì)的性能,黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。
 
我們要做的第一件事就是通過(guò)File-New子菜單設(shè)置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導(dǎo)入正確的設(shè)計(jì),圖2,Next,圖3,是我們需要的基板,默認(rèn)是從設(shè)計(jì)中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測(cè)量性能為反射率,則應(yīng)使用Wedge屬性。最后,我們需要導(dǎo)入測(cè)量性能。圖4顯示了這個(gè)階段工具的外觀。
 
圖2.反演工程工具的對(duì)話框,其中應(yīng)輸入無(wú)錯(cuò)誤設(shè)計(jì)的路徑。
 
 
圖3.反演工程中的第二個(gè)和第三個(gè)對(duì)話框,我們?cè)谄渲休斎牖寮?xì)節(jié),然后輸入測(cè)量的性能。性能可以是反射率、透射率或橢圓參數(shù)。

 
圖4.輸入性能后,顯示屏將顯示測(cè)量的性能以及從正確設(shè)計(jì)中計(jì)算得出的性能。有各種可用的命令,可以減少目標(biāo)點(diǎn)的數(shù)量、阻止某些目標(biāo)區(qū)域等
 
可用兩種優(yōu)化技術(shù):Simplex和Differential Evolution。和通常一樣,單純形速度更快,但更容易受到局部極小值的影響。通常我們先試試Simplex。每個(gè)技術(shù)都有一些相關(guān)的參數(shù),然后對(duì)工具可以接受的變化量有限制。所有這些都是為了指導(dǎo)這個(gè)過(guò)程找到正確的解決方案。這些基本約束可以在控制參數(shù)對(duì)話框(圖5)中進(jìn)行調(diào)整,可以通過(guò)Adjust菜單進(jìn)行訪問(wèn)。
 
圖5.控制參數(shù)對(duì)話框,可以在其中設(shè)置許多控制過(guò)程的參數(shù)。所示的選項(xiàng)卡允許設(shè)置一些控制層參數(shù)優(yōu)化的參數(shù)。Optimizer選項(xiàng)卡允許在Simplex和Differential Evolution之間進(jìn)行選擇。
 
 
圖6.Agjust菜單是我們使用參數(shù)對(duì)話框啟動(dòng)和控制流程的地方。選項(xiàng)卡顯示我們可以改變的參數(shù)。Material選項(xiàng)卡允許所選材質(zhì)的所有層的變化。變化率可以是一個(gè)常數(shù),可以顯示,也可以在整個(gè)設(shè)計(jì)過(guò)程中線性或四次變化,這是在Order列中定義的。這基本上是工具因子的影響。
 
這種特殊的設(shè)計(jì)一點(diǎn)也不復(fù)雜,不太可能存在多個(gè)解決方案的問(wèn)題,因此我們將選擇simplex作為優(yōu)化技術(shù)。它的選擇反映在圖4標(biāo)題欄中的符號(hào)<s>中。另一種可能性是<de>。要繼續(xù),我們打開(kāi)參數(shù)對(duì)話框,圖6,可在Adjust菜單中找到。這就是我們控制進(jìn)度的地方。Material選項(xiàng)卡基本上與工具因子有關(guān),Layer選項(xiàng)卡與各個(gè)膜層有關(guān),Spectrum選項(xiàng)卡與測(cè)量中可能出現(xiàn)的錯(cuò)誤有關(guān),盡管應(yīng)將其用作最后手段,Material Mode選項(xiàng)卡與某些表達(dá)式相匹配,History選項(xiàng)卡允許導(dǎo)航回到初始結(jié)構(gòu)和在整個(gè)過(guò)程步驟中前進(jìn)。這是一個(gè)相對(duì)簡(jiǎn)單的例子,因此我們?cè)试S所有層的厚度變化,如圖7所示。優(yōu)化實(shí)現(xiàn)得很快。擬合非常接近,一個(gè)好的指標(biāo)是0.00054的RMS Difference,這是擬合接近度的一個(gè)度量。圖8的Design選項(xiàng)卡中給出了完整的設(shè)計(jì)細(xì)節(jié)以及層厚度的百分比變化,但評(píng)估結(jié)果的快速有效方法是使用Results菜單打開(kāi)繪圖。在這種情況下,我們選擇隨機(jī)厚度,并得到圖9。
 
 
圖8.這是Simplex幾秒鐘優(yōu)化的結(jié)果。擬合非常接近,頂部顯示的RMS Difference為0.00054非常令人滿意。
 
 
圖9.該工具正確地識(shí)別了擾動(dòng)設(shè)計(jì)中的問(wèn)題,這一隨機(jī)厚度變化圖證明了這一點(diǎn)。
 
這是一個(gè)非常直接簡(jiǎn)單的案例。實(shí)際過(guò)程遠(yuǎn)遠(yuǎn)比這個(gè)案例復(fù)雜,需要研究人員具備一定的知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)才能準(zhǔn)確分析出問(wèn)題到底出在哪。
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