VirtualLab 5.4
更新時(shí)間：2012.9
更新服務(wù)：2012年第三季度的需要
安裝：在5.0或5.x.x的版本上安裝更新
光柵模擬
光柵分析方面有幾個(gè)性能的改進(jìn)。這包括并行生成的過渡點(diǎn)和其他的傳輸點(diǎn)。因此，可以大幅度減少90%的計(jì)算時(shí)間或更多（具體數(shù)值依據(jù)具體應(yīng)用）。
在光柵效率分析器中，衍射效率低于用戶自定義閾值的級次可以設(shè)置為0了。這會影響衍射效率和瑞利系數(shù)。
增加了一個(gè)選項(xiàng)來控制在零級產(chǎn)生的線性相位是否在光柵場內(nèi)部分析器的結(jié)果中顯示。
光柵場內(nèi)部分析器允許調(diào)整顯示區(qū)域，并允許對多個(gè)周期進(jìn)行探測分析。
光柵場內(nèi)部分析器的算法進(jìn)行了修訂。它現(xiàn)在的速度更快，同時(shí)允許對光柵內(nèi)部的磁場進(jìn)行計(jì)算。
分解預(yù)覽按鈕允許調(diào)整在X方向上的取樣信息。
對非垂直的入射波，由FMM計(jì)算出的衍射級次的數(shù)目已經(jīng)被優(yōu)化了。
視圖和數(shù)據(jù)數(shù)組
在光學(xué)系統(tǒng)和元件的3-D視圖中增加了一個(gè)長度比例。
現(xiàn)在更多的插值法可以應(yīng)用到數(shù)據(jù)數(shù)組中。一個(gè)位圖序列（可以輸出為AVI格式視頻）可以從由幾個(gè)子集組成的數(shù)據(jù)數(shù)組生成。
增加了把數(shù)據(jù)數(shù)組轉(zhuǎn)換成諧波場的功能。
一些操作的啟用使得數(shù)據(jù)陣列包括重新采樣和子集訪問的功能。同時(shí)，提供了一些新的探測器（最大值、最小值）。
光學(xué)表面
引入定義光學(xué)表面離散的高度水平（量化）的幾個(gè)模式。這樣，定義好的高度輪廓可以適用于不同的生產(chǎn)流程。
照明工具箱
局部線性光柵分析器現(xiàn)在可以處理不同波長和橫向模式的遠(yuǎn)場光源。而且，它將記錄仿真的時(shí)間。
改進(jìn)了具有光柵陣列的光學(xué)系統(tǒng)的性能和模擬精度。
現(xiàn)在的光柵單元格陣列制造輸出允許為csv格式的十進(jìn)制數(shù)和列分隔符。
參數(shù)運(yùn)行
顯示物理單位的屬性現(xiàn)在被放到參數(shù)運(yùn)行、優(yōu)化和迭代文檔中去了。
現(xiàn)在，合成輸出如諧波場設(shè)置一樣把諧波場設(shè)置結(jié)果結(jié)合在一起了。
參數(shù)運(yùn)行允許改變由當(dāng)前光路元件定位類型指定的角度。
對于激光諧振腔的分析，現(xiàn)在可以改變?nèi)肷洳ㄩL了。
處理
現(xiàn)在可以通過檢查更新菜單項(xiàng)檢查VirtualLabTM是否有更新。
在界面編輯對話框中顯示錯(cuò)誤消息的方式得到改進(jìn)。
現(xiàn)在可以直接對鍍膜層和材料進(jìn)行編輯了。
現(xiàn)在允許通過源代碼的快捷菜單來打印編程的模塊和片段了。
在主菜單中的一些項(xiàng)目和在光路樹性菜單都采取按字母順序排列。
光源
組合光源允許從多個(gè)光源類型中選擇光源，包括了可編程和存儲場光源。
Zemax文件的輸入
從Zemax中輸入的波長現(xiàn)在被認(rèn)為是定義在空氣中的波長。為此，存儲在Zeamx文件中環(huán)境參數(shù)（溫度和壓強(qiáng)）會被考慮進(jìn)去。
新增加并且更新了教程和應(yīng)用案例
案例500：設(shè)計(jì)反射性的擴(kuò)散器（新增）。這個(gè)應(yīng)用案例演示的是設(shè)計(jì)和分析一個(gè)微結(jié)構(gòu)化的鏡面來產(chǎn)生一個(gè)擴(kuò)散角分布。
案例 385.01：高數(shù)值孔徑的位圖擴(kuò)散器的優(yōu)化（新增）。這個(gè)應(yīng)用案例演示了設(shè)計(jì)和分析一個(gè)高數(shù)值孔徑的衍射光學(xué)元件創(chuàng)建一個(gè)不畸變的網(wǎng)格位圖。
其他的幾個(gè)應(yīng)用案例也已經(jīng)更新了。
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