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VirtualLabTM4完整的發(fā)布信息
時間:2010-06-25 13:26來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點擊:次打印

4.8版本
VirtualLabTM 4.8(2010年6月發(fā)布)提供了以下增強功能:
 光柵模擬
- 可以定義2D通用光柵。利用堆棧技術(shù),其結(jié)構(gòu)的周期性可通過一系列光學(xué)接口進行定義,這些接口包括光柵、圓錐、非球面、采樣和可編程等類型。另外,堆?梢栽诨鶋K的兩邊進行累加。因此,對光柵的定義具有很強的靈活性。到目前為止,這些接口只能在Z軸方向進行分列。
- 支持高級的多核計算,而且可以并行操作,使單個模擬的速度得以較大提升。
- 可以模擬更長的周期(約1900*wavelength in 2D, (37*wavelength)2 in 3D),以及更高的階數(shù)(約5800 in 2D, (75*75) in 3D)。
- 光柵分析儀中的場分析可用于非垂直入射。
- 近場傳播考慮了吸收系數(shù)。
- 光柵的反射通道接收大于0的距離。
- 光柵工具箱里提供了啟動/停止光路連接的功能。
 光學(xué)元件的建模
- 像素化和量化可應(yīng)用于任何光學(xué)接口,這種功能可以模擬出現(xiàn)在生產(chǎn)過程之后的光學(xué)接口。對于量化的接口,應(yīng)使用副基底幾何光學(xué)傳播模式。
- 引入了光學(xué)接口的比例因子,這特別適合關(guān)于像素化和量化的誤差分析。
 參數(shù)運行
- 像素化和量化可應(yīng)用于任何光學(xué)接口,這種功能可以模擬出現(xiàn)在生產(chǎn)過程之后的光學(xué)接口。對于量化的接口,應(yīng)使用副基底幾何光學(xué)傳播模式。
- 在Virtuallab中,Parameter RUN的高級功能可以使用多核處理器來提高運算速度
-對于此版本中的Parameter run來說,現(xiàn)在可以得到更多的光學(xué)結(jié)構(gòu)參數(shù)。這些優(yōu)勢適用于在光學(xué)界面序列和雙界面部件中的參數(shù)配置
- 單色光源重量在參數(shù)運行可用的。
 編程
-   此版本的片段和模塊編輯已有所改善,并添加了突出的源代碼。
-   試用版本允許加載和模擬應(yīng)用場景,包括片段(可編程組件)。
 衍射光學(xué)元件設(shè)計
- 衍射光學(xué)元件(擴散器,光束分離器)設(shè)計的會議編輯可以自動設(shè)置的實驗光圈的大小。
 試用版本
- 試用版啟動沒有管理權(quán)限的限制。
- 試用版本允許加載和模擬應(yīng)用場景,其中包括可編程元件。
 處理
- 現(xiàn)在用戶可以從媒體或用戶定義的材料目錄中提取任何材料。
- 材料學(xué)角度說明了事情所處的狀態(tài)。
- 由一維圖可以分別知道它們的最低和最高值,
 其它
- 利用LZOS主頁上的數(shù)據(jù),LZOS玻璃的一些數(shù)據(jù)能得到糾正。
- 在“'旋轉(zhuǎn)模式”下使用時,光線追蹤儀可能需要更多的時間進行初始化。

4.7版本
VirtualLabTM 4.7(2010年3月發(fā)布)提供了以下增強功能
 光線跟蹤分析儀
- 光線亮度根據(jù)輸入面的強度進行調(diào)整(類似光線視圖)。
- 接近1光圈的射線可以隨意移動(默認設(shè)置)以使他們接觸到光圈。此外,小強度的光線可以通過用戶定義的閾值而被禁用。
 光柵模擬
- 場內(nèi)部光柵分析儀現(xiàn)在適用于非直射。
- 現(xiàn)在近場傳播考慮到了吸收系數(shù)。
- 光柵反射通道接受大于零的距離。
 參數(shù)運行
- 如果同時有多個參數(shù)時,在工具提示欄顯示目前運行參數(shù)相應(yīng)的值。
- 運行的參數(shù)設(shè)置為“可編程”的副本,局部參數(shù)和已經(jīng)打開的全局運行參數(shù)亦如此。
- 大參數(shù)運行可再次保存到硬盤(4.6版本中的故障)。
 目錄
- 菲涅爾和圓柱菲涅爾接口,光柵接口和多種組合接口在接口目錄中現(xiàn)已可以作為模板實用。
- 現(xiàn)在標準空氣、埃德倫公式用來描述色散,它取代采樣數(shù)據(jù)。
 編程
- 源代碼編輯器內(nèi)片斷的一致性檢查顯示有關(guān)行的詳細信息,其中的片段定義是無效的和錯誤信息。
-片斷全局參數(shù)的進出口的數(shù)組得到改進。
 處理
- 均勻介質(zhì)的處理在對話框中是一致的,如光接口序列的對話框。
- 光路視圖中的選擇元件被用來作為LPD工具的的初始配置。
- 多選擇可以啟用光路元件的進口。
- 多選擇可以啟用目錄中舊材料和涂料的進口。
- 非球面或多項式系數(shù)以及梯度折射率介質(zhì)界面使用毫米代替米作為基本單位。也就是說,目錄值的使用被簡化了。
- 虛擬屏幕現(xiàn)在允許顯示極化,包括橢圓極化。
- 現(xiàn)在您可以在圖表中計算最低位、最高位置和半高寬
- 大多數(shù)表格允許使用上下文菜單將其項目復(fù)制到剪貼板。某些表也支持了從剪切板進 行粘貼(非球面接口,圓柱接口,菲涅爾接口,圓柱菲涅爾接口,多項式接口,梯度折射率介質(zhì),澤尼克賽德爾像差)。
- 平面波場允許所有項目復(fù)制到Windows剪貼板。
版本4.6.1
VirtualLabTM 4.6.1(2010年2月發(fā)布)沒有附加功能服務(wù)。非球面界面對話框的形式得
到了改善。
版本4.6
VirtualLabTM 4.6(2010年1月發(fā)布)提供了以下增強功能,
三維光柵模擬的引進
- 三維指數(shù)調(diào)制光柵的電磁分析已經(jīng)啟用。在版本4.6,指數(shù)調(diào)制可以由一個支柱介質(zhì)所描述,其可以用來模擬,例如人工媒體。

版本4.5.1
VirtualLabTM 4.5.1(2009年12月發(fā)布)沒有附加功能服務(wù)?删幊探涌诘男阅艿玫搅
改進。
版本4.5
VirtualLabTM 4.5(2009年12月發(fā)布)提供了以下增強功能
•部分相干光模擬
- 部分準均相源的相干光可以由諧波領(lǐng)域的設(shè)置展示(模式)。利用相干函數(shù)為了模型光分布,定制模式是必需的。增加了一個可編程的模式平面源,其允許通過小代碼段進行定制模式的規(guī)范化。
- 平面源在VirtualLabTM中用于部分相干光模擬。版本4.5允許每個平面源定義一個定制的全局極化。
•具有指數(shù)調(diào)制的光學(xué)元件的建模
- LightTrans添加了指數(shù)調(diào)制光學(xué)元件的建模。這些組件包括兩個自由曲面和一個指數(shù)調(diào)制,并可以使用新的雙界面組件實現(xiàn)。
- 雙界面的組件允許自聚焦透鏡作為示范,定制指數(shù)模擬元件以及檢測光學(xué)元件基板內(nèi)部缺陷。
- 可編程介質(zhì)允許通過代碼片段進行三維折射率調(diào)制的規(guī)范化。
- XY-指數(shù)調(diào)制板由雙界面組件取代。當利用XY-指數(shù)調(diào)制板加載舊光路文件時,轉(zhuǎn)換自動完成。
•衍射和折射自由曲面
- 一個多項式、一個采樣和可編程接口已被添加,以模型化衍射和折射自由曲面。該接口可用于雙界面、單光接口和光接口序列元件。
- 采樣接口允許通過高度離散數(shù)據(jù)點進行定制的自由曲面的規(guī)范化,同時可編程接口可以由代碼段規(guī)范化。
- 非球面界面組件序列被更名為光接口序列。
•衍射和微觀結(jié)構(gòu)光學(xué)元件的建模
- 衍射和微結(jié)構(gòu)光學(xué)元件,例如衍射光學(xué)元件,相位板,微透鏡陣列,衍射透鏡,菲涅爾透鏡,混合鏡頭,可以通過雙界面組件模型化。
- 表面輪廓可以使用新的編程和采樣接口模型化。
•超短脈沖模擬:
- 作為起動工具箱的一部分,我們在4.5版介紹了超短脈沖模擬。
- 利用高斯脈沖的頻譜、脈沖傳播和減少取樣的光學(xué)路徑長度分析儀的脈沖生成也包括在內(nèi)。
- 時域和頻域的傅里葉變換提供脈沖。
- 光學(xué)路徑長度分析儀可用于評估 活動源和用戶定義的光路圖的元件之間的光學(xué)路徑長度。它也可以指定是否計算絕對相位?梢赃M行觀察三種不同的線性相位。
•激光諧振器分析:
- 本征模式分析儀用于計算本征(包括基本和高級模式)和諧振器特征值設(shè)置。福克斯力及阿諾爾迪算法都可使用。
- 諧振編輯器允許通過LASCAD輸入諧振器系統(tǒng)。
- 存儲鏡像功能可用于模擬微反射鏡結(jié)構(gòu)作為諧振器的一部分,利用存儲功能定制的孔徑也是可用的。
- 運行參數(shù)可用于諧振器的公差分析。
- 外耦合模式可以計算和模擬外部光學(xué)系統(tǒng)。

•傳播:
- 分步傳播(基于基底層光束傳播方法)被用于指數(shù)調(diào)制媒體的模擬。
-副基底層幾何光學(xué)操作已被添加并且提供雙界面組件和激光諧振器工具箱。在起動工具箱中的其他組成部分即將發(fā)布。這是一個由幾何光學(xué)操作者提供的性能優(yōu)化的模式版本(AI,AII)。
•目錄:
- VirtualLab為工作目錄實現(xiàn)一個新概念。材料和涂料的現(xiàn)有目錄被調(diào)整,增加了光接口和光介質(zhì)的新目錄,更多信息可在手冊中找到。
- 涂層處理是VirtualLab目錄管理的主要部分。此外,它現(xiàn)在更容易通過自動復(fù)制層序列制造高反射涂層。
- 材料了解它們的所處的狀態(tài)。
- 如果涂層被添加到一個光纖接口,則基材被自動確定。
有關(guān)設(shè)計的改進:
- 結(jié)構(gòu)設(shè)計提供了一個生成光路圖的選項,其中光路圖具有雙界面組件包含指定的實驗結(jié)構(gòu)。
有關(guān)光柵模擬的改進:
- 光柵效率分析儀顯示總效率和吸收率。
- 新的內(nèi)場光柵分析儀允許計算內(nèi)場光柵。
- 在全息光柵組件中,用戶輸入真空波長取代平面波干涉的介質(zhì)波長,兩個波長同時顯示。
- TE和TM的理想平面波光源偏振工作正常。
•參數(shù)運行:
- 可編程運行參數(shù)可以使用戶通過一個自編程片段進行指定參數(shù)的進展指定。因此,不僅僅線性進展可以進行評估。
- 澤尼克邊緣系數(shù)可以改變現(xiàn)在的運行參數(shù)。
•新的以及更新的光路元件和它們的特點:
- 對于存儲橫向場源,只有全局極化場被接納為橫向受理,在對話框中極化被定義,即進口領(lǐng)域的兩極分化被忽略。
- 單光接口可以利用新的參考點,光接口序列和球面鏡片上:組件的最大范圍定義了兩個新的點。
- 在定制的傳播模式,例如雙界面組件其是可用的,對于一個組件的不同部分可以來定義的不同傳播操作者。
- 對于每個接口評論光組件序列表的接口都可以成立。
- 一個理想的球面鏡已推出。
- 理想反射鏡允許定義反射。
- 在一個方向上字段大小和抽樣機械臂節(jié)選“'1'”作為采樣點,這意味著一個2維現(xiàn)場被轉(zhuǎn)換為一維的。
- 光纖耦合效率探測器確定不合適的光纖或光纖模式的直徑。
- 追蹤儀的射線通過光接口序列已被添加到可視化的光傳播。
•計算器:
- 方向轉(zhuǎn)換器(計算器)可以處理不同的媒體。
- 菲涅耳效果計算器可以輸出波長和角度的依賴到圖上。
•編程:
- 用于編輯VirtualLabTM小片段的源代碼編輯器允許直接檢查其一致性。
•處理:
- VirtualLabTM檢查在文件關(guān)閉之前該文件是否需要保存,其實施于模塊、設(shè)計問題、試算表、光路圖和參數(shù)運行。
- 在關(guān)閉會話編輯器后,用戶可以指定所有后來的文件、由會議編輯器生成的是否應(yīng)當關(guān)閉。
- 檢測結(jié)果記錄在VirtualLabTM主窗口的底部一個額外的表中,這導(dǎo)致了由VirtualLabTM生產(chǎn)的所有探測器的更完善的安排概述.
-菜單項“'窗口-關(guān)閉所有當前”'除了當前窗口所有Windows都能被關(guān)閉。
-通過鼠標滾輪變焦和工具欄放大圖是可能的。
- Windows可以通過不同的方法被安排(級聯(lián),橫向平鋪,縱向平鋪,排列圖標)。
- 一系列數(shù)據(jù)圖表的坐標軸可通過屬性瀏覽器調(diào)整。
- 擴展名為.csv的文件可以直接輸入。
•工具:
- 數(shù)據(jù)場圖可以定期復(fù)制。
-如果光路圖處于活動文檔窗口,則光路圖的工具(工具欄)是可用的。該VirtualLabTM工具欄提供了一個標準按鈕啟動或停止活動的光路圖(窗口以及編輯器)和一個活動的VirtualLabTM模塊。
- 實地評估工具提供評價諧波領(lǐng)域的方法。通過一個點或線輪廓提取,VirtualLabTM提供一個圖其場量是可選的。
Version 4.2.1
VirtualLabTM 4.2.1 版本(發(fā)布2009年3月) 是一個服務(wù)版本并沒增加新的特征。
Version 4.2
VirtualLabTM 4.2 (發(fā)布2009年3月) 改進了以下部分:
 新的光路元件
- 衰減過濾器,該過濾器消除了光場的漸逝部分。只有傳播的平面波任然在光場的頻譜中。
- 偏振檢測器。該檢測器給出了光場的E_Rho 和 E_Phi元件,只有在光路中才能得到。
- 瓊斯矩陣在4.2.1版本中已經(jīng)去掉了請不要使用。

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