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光學(xué)仿真軟件FRED應(yīng)用于側(cè)入光式的背光模塊
時(shí)間:2015-07-05 21:55來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印

請(qǐng)問FRED這套軟件針對(duì)一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)?LGP上會(huì)印刷光學(xué)級(jí)油墨點(diǎn)(Pattern),我們會(huì)控制Pattern直徑的大小,來控制整個(gè)背光模塊的均勻性,是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)?

Ans:可以,光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。

如下圖,并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn)

 

在FRED可以設(shè)定散射表面,而油墨本身就是一種散射表面,如下
 

光線追跡:
 

也可以加上BEF片的模擬


模擬結(jié)果
 

 

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