摘要
元件內(nèi)部場分析器：FMM允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結(jié)構(gòu)（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內(nèi)部的場。還可以指定場的哪一部分應(yīng)該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
元件內(nèi)部場分析儀：FMM
元件內(nèi)部場分析器：FMM是光柵光學(xué)裝置的獨有功能，可提供光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。
評估模式的選擇
為了更容易地區(qū)分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
評價區(qū)域的選擇
元件內(nèi)部場分析器：FMM可以輸出整個元件（包括基板）內(nèi)部的場，或者只輸出一個堆棧或基塊（基板）中的場。
不同光柵結(jié)構(gòu)的場分布
任意形狀的光柵結(jié)構(gòu)可以通過元件內(nèi)部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：
光柵結(jié)構(gòu)的采樣
雖然分析儀為輸出數(shù)據(jù)提供了一些采樣選項，但系統(tǒng)中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點和過渡點的層數(shù)足夠）。
分解預(yù)覽展示了如何根據(jù)當前采樣因子對光柵結(jié)構(gòu)進行采樣。
光柵結(jié)構(gòu)的充分采樣意味著已經(jīng)實現(xiàn)了收斂，即進一步增加采樣不會顯著影響產(chǎn)生的場。例如，如果層分解過于粗糙，則可能會由于縱斷面中的大臺階而產(chǎn)生其他影響。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：一維周期光柵（Lamellar）
對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話框“采樣”部分中指定的參數(shù)生成2D橫截面圖像。
輸出數(shù)據(jù)的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設(shè)置為2D Periodic時，F(xiàn)ield Inside Component Analyzer：FMM將通過結(jié)構(gòu)生成一系列二元截面，z方向的采樣參數(shù)決定執(zhí)行的切割次數(shù)。
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