摘要
在半導(dǎo)體工業(yè)中，晶片檢測(cè)系統(tǒng)被用來(lái)檢測(cè)晶片上的缺陷并找到它們的位置。為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率，檢測(cè)系統(tǒng)通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長(zhǎng)范圍內(nèi)。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測(cè)系統(tǒng)的模型，并演示了成像過(guò)程。
任務(wù)描述
通過(guò)在堆棧中定義適當(dāng)形狀的表面和介質(zhì)來(lái)模擬諸如在晶片上使用的周期性結(jié)構(gòu)的柵格結(jié)構(gòu)。然后，該堆�？梢詫�(dǎo)入到各種不同的組件中，具體取決于預(yù)期用途。在這種情況下，我們將堆棧加載到一般光學(xué)設(shè)置中的一個(gè)光柵組件中，以便模擬整個(gè)系統(tǒng)。有關(guān)詳細(xì)信息，請(qǐng)參閱：用于通用光學(xué)系統(tǒng)的光柵元件
微結(jié)構(gòu)晶片的角度響應(yīng)
該光柵組件使用傅里葉模態(tài)法(FMM)，也稱為嚴(yán)格耦合波分析(RCWA)，其運(yùn)作在k域中。當(dāng)入射大NA光束時(shí)，需要考慮在k域中有足夠數(shù)量的采樣點(diǎn)來(lái)解決角度敏感效應(yīng)。在光柵組件的求解器區(qū)域中，用戶可以輕松地調(diào)整此參數(shù)，以確�？焖俣鴾�(zhǔn)確的模擬。
大NA物鏡
Lens System Component允許輕松定義由光滑表面和均勻、各向同性介質(zhì)的交替序列組成的組件。在界面和材料方面，可以從內(nèi)置目錄中選擇現(xiàn)成的條目，也可以定制自己的條目，以實(shí)現(xiàn)最大的靈活性。
通用探測(cè)器和探測(cè)器插件
通用探測(cè)器可以評(píng)估入射場(chǎng)，并通過(guò)所謂的附加組件計(jì)算各種物理量。作為結(jié)果，所提供的附加組件之一提供了空間域中的輻照度。有關(guān)詳細(xì)信息，請(qǐng)參閱：通用探測(cè)器
非序列追跡
將通道配置模式切換設(shè)置為手動(dòng)配置后，用戶可以為系統(tǒng)中的每個(gè)表面指定要為模擬打開(kāi)哪些通道。當(dāng)運(yùn)行模擬時(shí)，將執(zhí)行活動(dòng)光路的初步分析(通過(guò)所謂的光路查找器)。然后，引擎將沿著這些光路追跡磁場(chǎng)，直到系統(tǒng)中的探測(cè)器。
用于非序列追跡的通道設(shè)置
總結(jié)-組件
系統(tǒng)印象
場(chǎng)追跡結(jié)果
結(jié)果的非對(duì)稱
光柵的非對(duì)稱性也導(dǎo)致干涉中的輕微不對(duì)稱性。可以在結(jié)果中識(shí)別光柵是否鏡像，結(jié)果也將顯示為鏡像。
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