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錐形相位掩模的Talbot圖像
時(shí)間:2022-07-13 23:26來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
摘要
 
在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM,也稱(chēng)為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模?梢詸z測(cè)到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案,而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。
 
 
建模任務(wù)
 
 
structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
 
系統(tǒng)建模塊
 
 
特定位置的Talbot圖案

 
特定位置的Talbot圖案
 
不同位置的Talbot圖案

 
不同位置的Talbot圖案

 
沿 Z 軸的強(qiáng)度

 
VirtualLab Fusion技術(shù)

  
文件信息

 
更多閱覽
- Ultra-Sparse Dielectric Nano-Wire Grid Polarizers
- Grating Order Analyzer
- Modeling of the Talbot Effect
- Configuration of Grating Structures by Using Interfaces
- Configuration of Grating Structures by using Special Media
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