1. 摘要
為了控制用于 AR/MR 應(yīng)用的光導(dǎo)設(shè)備的均勻性和效率，有必要在某些區(qū)域，例如 在擴(kuò)展和輸出耦合光柵區(qū)域，引入變化的光柵參數(shù)，例如填充因子或光柵高度值。
為此，VirtualLab Fusion 能夠在一個(gè)區(qū)域內(nèi)引入平滑變化的光柵參數(shù)，其中可以以非常不同的方式配置所需的變化。 這還包括一個(gè)工具，用于研究針對(duì)特定入射條件和光柵參數(shù)提供的衍射效率。 這個(gè)例子解釋了如何應(yīng)用這些工具。
2. 建模任務(wù)的說(shuō)明
在光導(dǎo)上引入連續(xù)調(diào)制的光柵參數(shù)（例如，填充因子）。
3. 帶有附加引導(dǎo)的常規(guī)工作流程
起點(diǎn)是一個(gè)現(xiàn)有的、可執(zhí)行的光導(dǎo)系統(tǒng)，它具有基本的幾何配置（所需的距離和定位的光柵區(qū)域）和光柵規(guī)格（方向、周期、階數(shù)）。
需要參數(shù)調(diào)制的區(qū)域必須使用真實(shí)的光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行配置。
足跡和光柵分析工具用于指定光柵參數(shù)變化的所需范圍，在光柵相互作用的指定條件下嚴(yán)格計(jì)算相應(yīng)的瑞利系數(shù)，并生成可以定義實(shí)際參數(shù)變化的光學(xué)設(shè)置 .
注意：光柵調(diào)制是為單個(gè)光柵區(qū)域定義的。
4. 打開(kāi)足跡和光柵分析工具并設(shè)置光學(xué)裝置
5. 足跡和光柵分析工具
6. 光柵參數(shù)和相關(guān)范圍的選擇
• 可以同時(shí)改變一個(gè)或兩個(gè)光柵參數(shù)。
• 參數(shù)空間的采樣可以相對(duì)粗略，因?yàn)殡S后將在計(jì)算點(diǎn)之間應(yīng)用插值技術(shù)。
• 該表列出了光柵的所有可用參數(shù)。 對(duì)于在一個(gè)區(qū)域內(nèi)引入調(diào)制光柵參數(shù)，不允許使用改變光路的參數(shù)（如周期等）。
7. 查找表的計(jì)算
在配置所需的光柵參數(shù)變化后，可以通過(guò)單擊計(jì)算查找表來(lái)計(jì)算生成的光柵特性并將其存儲(chǔ)在查找表中。
查找表是針對(duì)在足跡和光柵分析工具的第一步中確定的光柵參數(shù)和 FOV 模式的定義變化計(jì)算的。 查找表會(huì)自動(dòng)保存到指定文件夾：
8. 光柵性能的研究
9. 從查找表加載瑞利矩陣
10. 更新光學(xué)系統(tǒng)的產(chǎn)生
11. 光柵調(diào)制配置
12. 基于采樣位置或網(wǎng)格的調(diào)制
13. 基于解析描述的調(diào)制
14. 基于數(shù)學(xué)描述的調(diào)制
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