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高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析

時間:2020-05-09 10:56來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點擊:次打印

1. 摘要

高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應(yīng)的理解。

2. 建模任務(wù)

3. 概述

 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡

 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。

4. 光線追跡仿真

 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。

 點擊“Go!”。

 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果

 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。

 點擊“Go!”。

 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結(jié)果)。

5. 場追跡仿真

 轉(zhuǎn)換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。

 點擊“Go!”。

6. 場追跡結(jié)果(相機探測器)

 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。

 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對稱性。

7. 場追跡結(jié)果(電磁場探測器)

 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結(jié)果

8. 文件信息

更多信息

Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination

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