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分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性

摘要

 

高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應(yīng)。 


 

建模任務(wù)

 

概述

 

•案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。

•接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。

 

光線追跡仿真

 

•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。

•單擊go！

•獲得了3D光線追跡結(jié)果。

 

光線追跡仿真

 

•然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。

•單擊go！

•結(jié)果得到點圖（二維光線追跡結(jié)果）。

 

場追跡仿真

 

•切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。

•單擊go！

 

 

場追跡仿真（相機探測器）

 

•上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。

•下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。

 

場追跡仿真（電磁場探測器）

•使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。

 

 

場追跡仿真（電磁場探測器）
 

•使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。

 

文件信息

 

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