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VirtualLab Fusion應(yīng)用:X射

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分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦
時(shí)間:2019-10-14 10:26來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
摘要
 
高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此,在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應(yīng)。


 
建模任務(wù)

 
入射平面波
波長 2.08 nm
光斑直徑: 3mm
沿x方向線偏振
 
如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析?
如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布?
 
概覽
•樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。
•接下來,我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。
 
   
光線追跡模擬
•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作為模擬引擎。
•點(diǎn)擊Go!
•獲得3D光線追跡結(jié)果。

  
光線追跡模擬
•然后,選擇“光線追跡”(Ray Tracing)作為模擬引擎。
•單擊Go!
•結(jié)果,獲得點(diǎn)圖(2D光線追跡結(jié)果)。
 

 
光場追跡模擬
•切換到“第二代場追跡”(Field Tracing 2nd Generation)作為模擬引擎。
•單擊Go!
 

 
光場追跡結(jié)果(照相機(jī)探測器)
 
•上圖僅顯示Ex和Ey場分量的強(qiáng)度。
•下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強(qiáng)度:由于高數(shù)值孔徑情況下相對較大的Ez分量,可以看到明顯的不對稱性。
 
  
 
光場追跡結(jié)果(電磁場探測器)
 
•通過使用電磁場探測器獲得所有電磁場分量。
  






 
文件信息
 



 
進(jìn)一步閱讀

  • 微結(jié)構(gòu)晶圓檢測光學(xué)系統(tǒng)
  • 利用矢量光束照射對亞波長光柵進(jìn)行成像
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