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高NA物鏡聚焦的分析

時(shí)間:2018-12-10 14:17來源:未知作者: infotek點(diǎn)擊:次打印

摘要

高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。

建模任務(wù)

概觀

光線追跡仿真

•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。

•點(diǎn)擊Go！

•獲得3D光線追跡結(jié)果。

光線追跡仿真

•然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。

•單擊Go！

•結(jié)果，獲得點(diǎn)列圖（2D光線追跡結(jié)果）。

場(chǎng)追跡仿真

•切換到場(chǎng)追跡并選擇“第二代場(chǎng)追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。

•單擊Go！

場(chǎng)追跡結(jié)果（攝像機(jī)探測(cè)器）

•上圖只顯示整合了Ex和Ey場(chǎng)分量的強(qiáng)度。

•下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強(qiáng)度。

Ez分量：由于在高NA情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱性。

場(chǎng)追跡結(jié)果（電磁場(chǎng)探測(cè)器）

•所有電磁場(chǎng)分量均使用電磁場(chǎng)探測(cè)器獲得。

文件信息

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