案例563(1.0)
1.建模任務(wù)
這個案例將演示設(shè)計與分析一個折射率調(diào)制的擴(kuò)散器圖層以生成Top Hat圖案。
設(shè)計包括兩個步驟:
- 設(shè)計相位函數(shù)來生成一個角譜Top Hat分布。
- 基于相位調(diào)制來計算對應(yīng)的折射率調(diào)制。
如果想要更詳細(xì)的解釋設(shè)計和分析步驟,請參見教程Tut565。
照明光束參數(shù)
波長:632.8nm
激光光束直徑(1/e2):700um
理想輸出場參數(shù)
直徑:1°
分辨率:≤0.03°
效率:>70%
雜散光:<20%
2. 設(shè)計相位函數(shù)
相位的設(shè)計請參考會話編輯器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和優(yōu)化文檔Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp
設(shè)計沒有離散相位級的phase-only傳輸。
3.計算折射率調(diào)制
最大折射率調(diào)制
△n=+0.05
如果是GRIN層,那么厚度:12.656um
折射率調(diào)制假設(shè)與相位調(diào)制成正比(薄元近似)。
為得到細(xì)節(jié)請參見教程Tut565。
優(yōu)化系統(tǒng)文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。
4.模擬結(jié)果
角強(qiáng)度分布
(參見Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
5.結(jié)論
VirtualLab Fusion支持設(shè)計GRIN衍射光學(xué)元件和全息圖。
優(yōu)化的GRIN元件可以生成任意二維強(qiáng)度分布。
可以模擬通過x/y平面上任意調(diào)制的介質(zhì)中的光傳播。
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