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結構設計和導出加工數(shù)據(jù)
時間:2015-08-20 18:34來源:訊技光電作者: 技術部點擊:次打印
內容簡介:
 
1.在VirtualLab中如何進行結構設計;
 
2.在VirtualLab中如何導入和導出加工數(shù)據(jù)。
 
結構設計
1) 點擊 ,打開示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2
 
 
2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布,默認為振幅視圖. 點擊,將默認的振幅視圖轉換為相位視圖,點擊“結構設計(Structure Design)”開始設計可產生該相位分布的對應結構
 
    
3) 進入(基于薄元近似)的純相位透射結構設計系統(tǒng)窗口
 
目標(Target)標簽,可以選擇將設計好的結構設計元件放在新的LPD中還是已有的LPD中
 
光學設置(Optical Setup)標簽,在此標簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate),并可選擇基板介質(Substrate Medium)和元件周圍的介質(Surrounding Medium),同時可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長(Wavelength)。
 
 
光學界面參數(shù)(Interface Parameters)標簽,在相位展開模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(None),以及不進行強制分層(Enforce Quantization),即不產生離散界面,并選擇像素化的高度輪廓(最臨近點插值)[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]對取樣光學界面進行插值
 

 
4) 完成結構設計,在新的LPD中設計好的結構已經包含在名為“Generated Structure Design Component”的元件中
 
 
 
導出加工數(shù)據(jù)
 
1) 在LPD中雙擊生成的元件,可見設計好的結構是以雙界面元件(Double Interface Component,簡稱DIC)的形式保存的,而高度輪廓以取樣光學界面(Sampled interface)的形式保存,點擊編輯(Edit)
 
 
2) 進入取樣光學界面的編輯(Edit Sampled Interface)窗口,在結構(Structure)標簽上,選擇臨近點插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法進行高度輪廓插值,并進行3D預覽
 
 
3) 在取樣光學界面預覽(Preview of Sampled Interface)中,點擊鼠標右鍵,選擇精度(Accuracy),將界面取樣精度設置為5,提高取樣光學界面的顯示精度
      

 
 
 
4) 進入界面高度離散化(Height Discontinuities)標簽,將離散高度階數(shù)(Discrete Height Levels)設置為8,通過工具(Tools)中的導出(Export)生成可用于光學界面加工的數(shù)據(jù)
 
 
 
5) 進入光學界面數(shù)據(jù)導出窗口
 
在一般(General)標簽進行如下圖所示的設置
 
在輸出參數(shù)(Export Parameters)標簽上選擇默認參數(shù)設置
 
在GDSII/CIF標簽上選擇默認設置,并點擊Export導出加工數(shù)據(jù)
 

導出加工數(shù)據(jù)列表
 
 
 
導入加工數(shù)據(jù)
 
1) 點擊 ,新建一個LPD,在LPD中選取單光學界面(Single Optical Interface)元件,以下簡稱SOI
 
 
2) 雙擊SOI,進入其編輯窗口,點擊加載(Load)
 
 
3) 導入取樣光學界面(Sampled Interface)
 
4) 點擊編輯(Edit),進入取樣光學界面編輯窗口,導入加工數(shù)據(jù)
 
 

 
 
 
5) 打開文件夾中的.xml文件,導入加工文件

 
6) 導入完成,觀察3D視圖
 

 
 
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