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光學(xué)相干層析成像的工作原理

摘要

掃描干涉測(cè)量是一種表面高度測(cè)量技術(shù)。通過利用白色光源的低相干性，只有當(dāng)路徑長度差落在相干性長度內(nèi)時(shí)才出現(xiàn)干涉圖案。因此，它能夠?qū)崿F(xiàn)非常精確的測(cè)量，這一特性在光學(xué)相干斷層掃描（OCT）的醫(yī)學(xué)成像中得到了利用，OCT正是利用了這一物理原理。VirtualLab Fusion在單個(gè)平臺(tái)上的各種可交互建模技術(shù)有助于對(duì)相干現(xiàn)象進(jìn)行高效建模。在這個(gè)例子中，構(gòu)造了一個(gè)帶有氙燈的邁克爾遜干涉儀，并用于測(cè)量具有平滑調(diào)制表面的樣品。

 

建模任務(wù) 

 

模擬與設(shè)置：單平臺(tái)交互操作
 

建模技術(shù)的單平臺(tái)交互操作

 

連接建模技術(shù)：光源

 

頻域方法

 

 

時(shí)域方法

 

 

交互式建模技術(shù)：消色差

 

 

消色差：鏡頭系統(tǒng)組件

 

 

交互式建模技術(shù)：分束器

 

交互式建模技術(shù)：自由空間傳播

 

 

交互式建模技術(shù)：帶樣品的鏡子

 

帶樣本的鏡子：采樣界面

 

 

連接建模技術(shù)：參考鏡子

 

連接建模技術(shù)：探測(cè)器

 

模擬結(jié)果

模擬干擾條紋

 

模擬干涉條紋–偽色

 

方法比較：LPIA與TEA

 

方法比較：頻域法與時(shí)域法

 

方法比較-偽色

 

文件信息

 

更多閱覽
-基于激光的邁克爾遜干涉儀與干涉條紋探測(cè)

-用于光學(xué)測(cè)試的斐索干涉儀